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发货及时的方钢圆钢公司

更新时间： 2026-01-02 02:53:55 ip归属地：重庆，天气：小雨转阴，温度：7-9 浏览：1次

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CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化学机械

抛光。CMP技术所采用的设备及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。

CMP技术的概念是1965年由Monsanto首次提出。该技术初是用于获取高质量的玻璃表面，如军用望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM 的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的"软磨硬"原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

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重庆城口秦甲钢材有限公司秉承质量为首，诚信的经营宗旨和以技术为先导、创新、专业、差异的经营理念，坚持精益求精，不断创新，品质取胜，顾客满意的质量方针，坚持高起点、高质量、高技术的经营思路，不断加大工字钢科技开发力度，已经成为工字钢行业中的一颗璀璨的恒星，展望未来，本公司全体同仁们将始终秉承敬业、爱业的企业精神，锐意改革、不断创新与广大用户携手共进，缔造辉煌的明天

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