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基本信息
中文名称
抛光

外文名称
polishing

原理
通过有规则溶解达到光亮平滑

 解释
磨擦使物体(如金器)光滑的过程

化学抛光
化学抛光机理
化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛光过程中，钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解，且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性，表面微观凸起部位优先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行，只是其速率有差异，结果使钢铁零件表面粗糙度得以整平，从而获得平滑光亮的表面。抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷，从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。

CMP抛光液
CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。

如何抛光
1. 机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中 的。光学镜片模具常采用这种方法。

2. 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。

质量标准:漆面上无氧化层、划痕等缺陷

2、抛光:抛光是研磨后进一步平整漆面。除去研磨残余条纹，抛光剂使漆面光泽度自然呈现。

2.1 粗蜡抛光:砂纸研磨后进一步去除表面砂纸痕，恢复漆面平整度和初始光泽。

将蜡均匀涂抹在一定漆面区域内(单次抛光面积在一臂展长宽范围内为宜)抛光机转速控制在1200-2000转之间。初期以中等偏上的压力压住抛光盘均速抛光漆面，观察漆面，待砂纸痕明显抛除后放松压力将蜡痕抛开，回复漆面一定的光泽。抛光后应使用超细纤维布擦拭干净漆面残留的粗蜡和粉尘。

质量标准:去除砂纸在漆面上造成的砂纸痕，漆面呈现处部分光泽。

2.2 镜面抛光:去除粗蜡抛光残留的圈纹，恢复车漆的原有光泽。

质量标准:漆面无明显圈纹，出现镜面效果，光泽度比抛光前得到有效改善。